第一代半導(dǎo)體取代了笨重的電子管,帶來了以集成電路為核心的微電子工業(yè)的發(fā)展和整個 IT 產(chǎn)業(yè)的飛躍,廣泛應(yīng)用于信息處理和自動控制等領(lǐng)域。盡管硅擁有很多優(yōu)越的電子特性,但這些特性已經(jīng)快被用到極限,科學(xué)家一直在尋找能替代硅的半導(dǎo)體材料,以制造未來的電子設(shè)備,隨后化合物半導(dǎo)體橫空出世。
近年來,隨著功率半導(dǎo)體器件、工業(yè)半導(dǎo)體、汽車電力電子等領(lǐng)域的空前發(fā)展,第三代半導(dǎo)體材料越發(fā)凸顯其重要性與優(yōu)越性。目前發(fā)達(dá)國家都將第三代半導(dǎo)體材料及相關(guān)器件等的發(fā)展列為半導(dǎo)體重要新興技術(shù)領(lǐng)域。
第三代半導(dǎo)體材料主要應(yīng)用領(lǐng)域
作為一類新型寬禁帶半導(dǎo)體材料,第三代半導(dǎo)體材料在許多應(yīng)用領(lǐng)域擁有前兩代半導(dǎo)體材料無法比擬的優(yōu)點(diǎn):如具有高擊穿電場、高飽和電子速度、高熱導(dǎo)率、高電子密度、高遷移率等特點(diǎn),可實(shí)現(xiàn)高壓、高溫、高頻、高抗輻射能力,被譽(yù)為固態(tài)光源、電力電子、微波射頻器件的“核芯”,是光電子和微電子等產(chǎn)業(yè)的“新發(fā)動機(jī)”。
此外,第三代半導(dǎo)體材料還具有廣泛的基礎(chǔ)性和重要的引領(lǐng)性。從目前第三代半導(dǎo)體材料和器件的研究來看,較為成熟的是氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)半導(dǎo)體材料,也是最具有發(fā)展前景的兩種材料。
從應(yīng)用范圍來說,第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域還具有學(xué)科交叉性強(qiáng)、應(yīng)用領(lǐng)域廣、產(chǎn)業(yè)關(guān)聯(lián)性大等特點(diǎn)。在半導(dǎo)體照明、新一代移動通信、智能電網(wǎng)、高速軌道交通、新能源汽車、消費(fèi)類電子等領(lǐng)域擁有廣闊的應(yīng)用前景,是支撐信息、能源、交通、國防等產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重點(diǎn)新材料。
在巨大優(yōu)勢和光明前景的刺激下,目前全球各國均在加大馬力布局第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域,但我國在寬禁帶半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)化方面進(jìn)度還比較緩慢,寬禁帶半導(dǎo)體技術(shù)亟待突破。
不同化合物半導(dǎo)體應(yīng)用領(lǐng)域
①GaAs 占大頭,主要用于通訊領(lǐng)域,全球市場容量接近百億美元,主要受益通信射頻芯片尤其是 PA 升級驅(qū)動;
②GaN 大功率、高頻性能更出色,主要應(yīng)用于軍事領(lǐng)域,目前市場容量不到 10 億美元,隨著成本下降有望迎來廣泛應(yīng)用;
③SiC 主要作為高功率半導(dǎo)體材料應(yīng)用于汽車以及工業(yè)電力電子,在大功率轉(zhuǎn)換應(yīng)用中具有巨大的優(yōu)勢。
化合物半導(dǎo)體材料優(yōu)勢顯著
隨著半導(dǎo)體器件應(yīng)用領(lǐng)域的不斷擴(kuò)大,特別是特殊場合要求半導(dǎo)體能夠在高溫、強(qiáng)輻射、大功率等環(huán)境下性能依然保持穩(wěn)定,第一代和第二代半導(dǎo)體材料便無能為力,于是第三代半導(dǎo)體材料。
第三代半導(dǎo)體主要包括氮化鎵(GaN)、碳化硅(SiC)、氧化鋅(ZnO)、金剛石、氮化鋁(AlN)。
與第一代、第二代半導(dǎo)體材料相比,第三代半導(dǎo)體材料具有高熱導(dǎo)率、高擊穿場強(qiáng)、高飽和電子漂移速率等優(yōu)點(diǎn),可以滿足現(xiàn)代電子技術(shù)對高溫、高功率、高壓、高頻以及抗輻射等惡劣條件的新要求,從其材料優(yōu)越性來看,頗具發(fā)展?jié)摿?,相信隨著研究的不斷深入,其應(yīng)用前景將十分廣闊。
SOI 的一個特殊子集是藍(lán)寶石上硅工藝,在該行業(yè)中通常稱為 Ultra CMOS。目前,Ultra CMOS 是在標(biāo)準(zhǔn) 6 英寸工藝設(shè)備上生產(chǎn)的,8 英寸生產(chǎn)線亦已試制成功。示范成品率可與其它 CMOS 工藝相媲美。
GaAs 生產(chǎn)方式和傳統(tǒng)的硅晶圓生產(chǎn)方式存在較大差異,采用磊晶技術(shù)制造,磊晶圓直徑只有 4-6 英寸,而傳統(tǒng)硅晶圓直徑為 12 英寸,對技術(shù)和操作精度有較大提升;此外,磊晶圓生產(chǎn)需專門設(shè)備,這就使砷化鎵技術(shù)成本高于傳統(tǒng)硅基技術(shù)。磊晶目前有兩種,一種是化學(xué)的 MOCVD,一種是物理的 MBE。
GaN 則是在 GaAs 基礎(chǔ)上的再升級,性能更優(yōu)越,適用于微電子領(lǐng)域和光電子領(lǐng)域。在微電子領(lǐng)域主要為無線通訊、光通訊、無線局域 網(wǎng)、汽車電子產(chǎn)品、軍事電子產(chǎn)品等方面;光電子領(lǐng)域為射頻 IC,具體體現(xiàn)為 PA、LNA 等通信元件。
有望全面取代傳統(tǒng)半導(dǎo)體
從應(yīng)用領(lǐng)域來看,第一代半導(dǎo)體硅(Si),主要應(yīng)用在數(shù)據(jù)運(yùn)算領(lǐng)域,第二代半導(dǎo)體砷化鎵(GaAs),主要應(yīng)用在通信領(lǐng)域,兩者都有一定的局限性。
第三代寬禁帶半導(dǎo)體碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN),以其高溫下的穩(wěn)定性、高效的光電轉(zhuǎn)化能力、更低的能量損耗等絕對優(yōu)勢,可以被廣泛應(yīng)用在各個領(lǐng)域,無論是消費(fèi)電子設(shè)備、照明、新能源汽車、風(fēng)力發(fā)電機(jī)、飛機(jī)發(fā)動機(jī),還是導(dǎo)彈和衛(wèi)星,都對這種高性能的半導(dǎo)體有著極大的期待,未來有望全面取代傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料。
第三代半導(dǎo)體材料已展現(xiàn)出極其重要的戰(zhàn)略性應(yīng)用價值,有望突破第一、二代半導(dǎo)體材料應(yīng)用技術(shù)的發(fā)展瓶頸,創(chuàng)新開拓時代需求的新技術(shù)領(lǐng)域,不僅在信息領(lǐng)域,而且進(jìn)入到能源領(lǐng)域發(fā)揮極為重要的作用。
國內(nèi)化合物半導(dǎo)體需求放量
由于其具有禁帶寬、擊穿電場強(qiáng)度高、飽和電子遷移率高、熱導(dǎo)率大、介電常數(shù)小、抗輻射能力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),可廣泛應(yīng)用于新能源汽車、軌道交通、智能電網(wǎng)、新一代移動通信、消費(fèi)類電子等領(lǐng)域,被視為支撐能源、交通、信息、國防等產(chǎn)業(yè)發(fā)展的核心技術(shù),已成為美國、歐洲、日本半導(dǎo)體行業(yè)的重點(diǎn)研究方向。
半導(dǎo)體技術(shù)在不斷提升,端設(shè)備對于半導(dǎo)體器件性能、效率、小型化要求的越來越高。尋找硅(Si)以外新一代的半導(dǎo)體材料也隨之變得更加重要。在50多年前被廣泛用于LED產(chǎn)品的氮化鎵(GaN),再次走入大眾視野。特別是隨著5G的即將到來,也進(jìn)一步推動了以氮化鎵代表的第三代半導(dǎo)體材料的快速發(fā)展。
國際半導(dǎo)體企業(yè)決心將其優(yōu)勢擴(kuò)延至第三代化合物半導(dǎo)體。中國作為全球最大的移動通信市場和新能源汽車市場,要實(shí)現(xiàn)新興產(chǎn)業(yè)的自主化,就必須擺脫國外“芯片禁運(yùn)”的禁錮,因此實(shí)現(xiàn)化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)本土化勢在必行。
隨著市場需求的增長和政策的支持,越來越多企業(yè)涉足這一領(lǐng)域。較之海外以 IDM 為主,當(dāng)前國內(nèi)廠商普遍選擇代工模式,目前國內(nèi)已初步打造化合物半導(dǎo)體 PA“上游(晶圓)+中游(設(shè)計、生產(chǎn)、封裝、測試)+ 下游(客戶)”產(chǎn)業(yè)鏈。相比于 IDM,代工門檻更低、擴(kuò)產(chǎn)相對容易且風(fēng)險較小。
結(jié)尾:
5G通訊意味著流量增長、寬帶升級與頻率提高,對于基站端與終端的應(yīng)用場景提出了全新挑戰(zhàn),通訊組件與電子器件必須適應(yīng)更高頻、更高溫、更高功率的環(huán)境,因此,化合物半導(dǎo)體成為5G通信的關(guān)鍵技術(shù)。
不僅是5G通信,新能源汽車、物聯(lián)網(wǎng)等諸多新興市場均對化合物半導(dǎo)體提出新需求。可以預(yù)見的是,第三代半導(dǎo)體材料是化合物半導(dǎo)體的新機(jī)遇,也是其重要的組成部分和發(fā)揮性能的關(guān)鍵要素。
公眾號:AI芯天下
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