寬帶隙器件的優(yōu)、缺點
幾乎沒有必要用碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)技術(shù)來描述寬帶隙(WBG)器件的質(zhì)量,因為單從這些器件標(biāo)注的名稱已經(jīng)足以保證極高的功率密度和匹配效率,最近的一個例證是“小盒子挑戰(zhàn)”,它將特定轉(zhuǎn)換器的目標(biāo)功率密度提高了三倍。在實際系統(tǒng)中,設(shè)計人員需要通常由SiC MOSFET和增強(qiáng)型GaN(e-GaN)HEMT單元提供的OFF開關(guān),但它們并不十全十美,都有自己的局限性和缺陷。這兩種類型的器件都需要非常特殊的柵極驅(qū)動電壓。SiC MOSFET具有相對較差的體二極管,而GaN器件則沒有經(jīng)典的體二極管,且沒有雪崩電壓特性。在“斬波器”、半橋和“圖騰柱”功率因數(shù)(PFC)級等許多實際應(yīng)用中,需要體二極管或其他類似的器件。為了顯著提高效率,SiC-MOSFET和GaN HEMT需要并聯(lián)一個高性能二極管,增加了總體成本和復(fù)雜性。
SiC共源共柵:一個古老技術(shù)的現(xiàn)代應(yīng)用
20世紀(jì)30年代,人們將真空管串聯(lián)起來,從而形成性能比任何一個單獨部件都好的混合器件。為了充分利用寬帶隙技術(shù),現(xiàn)代制造商們把這種古老想法進(jìn)行了重新設(shè)計,該技術(shù)被命名為“共源共柵極”,并在過去幾年來以BJT和MOSFET形式重新出現(xiàn)在市場。
在寬帶隙的實施中,共源共柵是指一個Si-MOSFET和通常為導(dǎo)通 SiC-JFET(ON SiC-JFET)器件的串聯(lián)連接(如圖1所示)。當(dāng)柵極處于高電平時,MOSFET導(dǎo)通,使JFET柵極 - 源極短路,強(qiáng)制其導(dǎo)通。當(dāng)MOSFET柵極為低電平時,其漏極電壓上升,直到JFET柵極 - 源極電壓達(dá)到約-7V,將其關(guān)斷,因而在MOSFET漏極上加有約7-10V的電壓?;旌想娐氛jP(guān)斷,柵極驅(qū)動電壓現(xiàn)在不是關(guān)鍵指標(biāo),MOSFET反向恢復(fù)電荷很低,電壓降低,其體二極管變快。這些屬性源于MOSFET是一種低電壓型器件,針對應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化,并通常與SiC晶片共用封裝。
圖1:Si-MOSFET和SiC-JFET的共源共柵排列。
共源共柵現(xiàn)在可以作為SiC-MOSFET和GaN HEMT的一個具有非常大吸引力的替代品,并且能夠很容易地用于目前正在使用Si-MOSFET和IGBT的傳統(tǒng)設(shè)計。圖表2給出了典型的650V共源共柵器件與其他寬帶隙器件和超級結(jié)Si-MOSFET的比較。
圖表2:SiC共源共柵與其他WBG器件和超級結(jié)MOSFET的比較。
其中一個最重要的參數(shù)是RDSA,意味著非常小的晶片尺寸,其他都基本相同。 這反過來導(dǎo)致低“米勒”輸入和輸出電容COSS,從而具有低開關(guān)損耗EOSS,以及一流的整體損耗品質(zhì)因數(shù)RDS * EOSS。在具備自然鉗位效應(yīng)的雪崩條件下,共源共柵有良好的性能表現(xiàn),而GaN器件由于沒有標(biāo)稱雪崩則不然。共源共柵器件由于具有高飽和電流,可以針對通道產(chǎn)生“夾止效應(yīng)(pinching off)”,因而能夠很好地處理4μs或以上的瞬間短路。導(dǎo)通電阻的正溫度系數(shù)也很有幫助。與其他器件不同,飽和電流不依賴于柵極驅(qū)動電壓,并且在升高到大約8V的VGS下依然能夠保持基本恒定。
盡管晶片尺寸較小,但熱傳導(dǎo)效率仍然很高,SiC的熱傳導(dǎo)率比GaN、Si以及有高TJ(MAX)值的典型WBG器件高三倍。
共源共柵器件允許的±25V柵極驅(qū)動電壓寬幅變化意味著其與用Si或SiC MOSFET設(shè)計實現(xiàn)的系統(tǒng)能夠直接兼容,所以在這些系統(tǒng)中可以用共源共柵器件代替原來的器件。即使是變化范圍典型值為+ 15 / -9V的IGBT柵極驅(qū)動也會很輕松地驅(qū)動共源共柵,因而可以更新原來的舊開關(guān)技術(shù)以獲得更好性能,或者在舊器件過期的時候加以更換。一個電池充電器制造商的案例研究表明,用共源共柵器件替代IGBT可以在10kW級別節(jié)省1.5%的效率,并可提高30%的功率輸出[1]。如果柵極電壓擺幅調(diào)整到較低水平,共源共柵器件柵極電荷明顯少于IGBT,而且柵極驅(qū)動功率要求也大大降低。
共源共柵器件可以使用熟悉的TO-247封裝,因此物理上可以插入IGBT或Si / SiC-MOSFET器件的插座,但對柵極驅(qū)動電路做微小改變可使該解決方案更加優(yōu)化。圖3所示的典型電路具有獨立的R(ON)和R(OFF)值,可以有效控制dV/dt和di/dt水平,鐵氧體磁珠根據(jù)布局需要來實施阻尼振蕩。由于實際上并不存在米勒電容,所以不需要柵極負(fù)驅(qū)動電壓,以防止電流從漏極dV / dt注入柵極,從而引起虛假導(dǎo)通。無論如何,如同任何開關(guān)型器件一樣,在柵極周圍的布局應(yīng)該遵循所示的良好規(guī)范,以使源極連接中的電感最小化,這種連接可能將電壓瞬態(tài)從溝道di/dt耦合到柵極。
圖3:典型的SiC共源共柵柵極驅(qū)動。