日本森田化學(xué)工業(yè)株式會社半導(dǎo)體用高純度蝕刻試劑項目在浙江入園。該項目將由合資公司浙江森田新材料有限公司實施，項目利用該合資公司無水氫氟酸作為原料制造高純度氟酸和BOE，產(chǎn)品將用于半導(dǎo)體的清洗和蝕刻。

該項目一期投資超過30億日元，項目總占地8.8萬平米。一期BHF與BOE產(chǎn)能各有2萬噸。預(yù)計2019年6月安裝完工，明年秋天開始生產(chǎn)，后續(xù)還將擴(kuò)產(chǎn)并新增新其他高純項目。 該項目將利用最先進(jìn)的森田化學(xué)的制造工藝和技術(shù)進(jìn)行制造，產(chǎn)品純度實現(xiàn)PPT級。滿足國內(nèi)半導(dǎo)體公司對超純高純度蝕刻試劑半導(dǎo)體行業(yè)日益增長的需求。

從用途分析；雖然3DNAND的內(nèi)存主要是干蝕刻，但是干蝕刻所產(chǎn)生的殘渣需要清洗，而晶圓濕蝕刻需求也在不斷增加。該公司BOE濃度將控制在40%-50%之間來滿足半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對清洗要求，BHF也能滿足半導(dǎo)體絕緣膜的蝕刻等方面的使用。

據(jù)了解，原浙江森田新材料有限公司主要生產(chǎn)的工業(yè)級AHF，原料供給日本的神奇川工廠和堺工廠使用，主要生產(chǎn)半導(dǎo)體超純試劑、鋁焊接條、光學(xué)鏡頭的氟化物。今后，中國超高試劑生產(chǎn)后，該公司工業(yè)原料預(yù)計一半供給日本，一半中國使用，其余不足部分由合資中方三美化工提供。

28日在浙江，由當(dāng)?shù)卣饕I(lǐng)導(dǎo)府主持下舉行了入園儀式，并邀請了國內(nèi)外業(yè)界人士，現(xiàn)場規(guī)模達(dá)到150人。儀式上森田康夫社長闡述了半導(dǎo)體行業(yè)硅晶圓和半導(dǎo)體氫氟酸是該行業(yè)缺一不可的關(guān)系，并表示產(chǎn)品純度將實PPT級，力爭世界第一。社長強(qiáng)調(diào)將會全力以赴為中國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出貢獻(xiàn)。