電子制造和半導(dǎo)體封裝精密清洗產(chǎn)品、工藝方案及培訓(xùn)服務(wù)提供商ZESTRON非常榮幸地宣布2018年首場(chǎng)在線公開課“ 清洗工藝中濃度在線實(shí)時(shí)監(jiān)控”將于北京時(shí)間2018年4月11日下午3:00正式開始。ZESTRON中國(guó)區(qū)的高級(jí)工藝工程師紀(jì)建光先生將分享潔凈度和可靠性兩大重要領(lǐng)域的核心知識(shí),幫助您在辦公桌前輕松獲得高質(zhì)量的技術(shù)培訓(xùn)。
授課內(nèi)容:
無(wú)論是在線清洗還是離線清洗,濃度的變化無(wú)時(shí)無(wú)刻影響著工藝的穩(wěn)定性??紤]到濃度在短時(shí)間內(nèi)的失控都可能導(dǎo)致大量工件質(zhì)量下降,所以必須引進(jìn)可靠的實(shí)時(shí)濃度監(jiān)控系統(tǒng)進(jìn)行預(yù)防。本文將解析常見清洗工藝中濃度變化的規(guī)律及成因,并通過(guò)對(duì)比市面上現(xiàn)存濃度監(jiān)控工具提出一套實(shí)時(shí)準(zhǔn)確的濃度管理方案。
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