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工藝設計套件推進創(chuàng)新

安森美半導體新的完整功能工藝設計套件,推進無源器件制造的小型化和創(chuàng)新。
2017-12-23

安森美半導體新的完整功能工藝設計套件,推進無源器件制造的小型化和創(chuàng)新。我們提供各種工具給設計人員,使他們開發(fā)出無線、便攜、和射頻器件應用的創(chuàng)新小巧解決方案。對于考慮采用集成無源器件 (IPD) 加速開發(fā)或避免使用大型表貼器件 (SMD) 的設計人員,如今利用適用于 National Instruments 應用波研究 (AWR) 環(huán)境的 PDK 套件可以輕松完成設計。

今年發(fā)布的 NI AWR PDK 套件支持我們先進的一流 IPD1 和 IPD2 工藝。此款 PDK 套件配備完全可擴展的布局參數(shù)單元 (Pcell)、先進布局實用程序以及準確的電磁 (EM) 仿真功能。此套件可應客戶要求供下載。

不熟悉 IPD 設計?我們提供了設計示例和教程,逐步指導采用我們極好的 IPD 工藝。我們確保減少設計人員的布局時間。我們的符號和原理圖均兼容 Cadence。利用預定義的基板定義和預配置的設置,您可輕松愉快地完成 EM 仿真。

隨著行業(yè)尋求更加小型的無線產(chǎn)品和高性能,我們的 IPD1 和 IPD2 工藝將更進一步發(fā)展和獲得更廣泛應用。這種增長已帶動對 NI AWR 設計環(huán)境下 IPD PDK 的需求。我們的共同客戶可利用此新的PDK 縮短開發(fā)周期,并加快部署創(chuàng)新的產(chǎn)品。

欲了解更多詳細信息,請參考鏈接:http://www.onsemi.cn/PowerSolutions/content.do?id=16699


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