2016年年底，華力微電子宣布啟動(dòng)總投資達(dá)387億元的二期建設(shè)項(xiàng)目。這是我國最新規(guī)劃建設(shè)的一條以28～14納米工藝為目標(biāo)的12英寸晶圓生產(chǎn)線。業(yè)界對(duì)其發(fā)展進(jìn)程高度關(guān)注。日前，華力總裁雷海波在“2017中國半導(dǎo)體市場(chǎng)年會(huì)”演講中，闡述了“先進(jìn)成熟”工藝的發(fā)展理念。有觀點(diǎn)認(rèn)為，這將是華力在其二期項(xiàng)目建設(shè)中采取的一項(xiàng)重要發(fā)展策略。

“先進(jìn)成熟”工藝將成二期發(fā)展策略

“目前，與國際先進(jìn)水平相比，中國大陸的半導(dǎo)體制造產(chǎn)能與工藝技術(shù)水平仍有很大差距。2016年，中國大陸晶圓代工產(chǎn)能僅占全球的14．6％，28納米及以下工藝產(chǎn)能僅占全球的1．4％。做大規(guī)模是做強(qiáng)的基礎(chǔ)，特別是要對(duì)‘先進(jìn)成熟’工藝（28、14納米）的產(chǎn)業(yè)化加大力度。其中，加大產(chǎn)業(yè)化投入是指加大每年的基礎(chǔ)研發(fā)投入和前瞻性技術(shù)的研發(fā)投入。另外，加強(qiáng)本土半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)人才培養(yǎng)也是產(chǎn)業(yè)化投入的重要部分?！边@是雷海波在演講中重點(diǎn)強(qiáng)調(diào)的觀點(diǎn)之一。

2016年，華力一期投產(chǎn)之后正式啟動(dòng)了二期項(xiàng)目建設(shè)，通過新設(shè)法人——上海華力集成電路制造有限公司的方式，在浦東新區(qū)康橋工業(yè)區(qū)南區(qū)新征土地建設(shè)一條月產(chǎn)能4萬片的12英寸集成電路芯片生產(chǎn)線。根據(jù)規(guī)劃，華力二期新生產(chǎn)線的工藝節(jié)點(diǎn)為28～14納米。它延續(xù)了一期項(xiàng)目55～40～28納米的工藝發(fā)展規(guī)劃，將形成相對(duì)連續(xù)完整的演進(jìn)路徑，重點(diǎn)正是國際上已經(jīng)相對(duì)成熟，但對(duì)中國大陸廠商來說仍然存在極大挑戰(zhàn)的28、14納米工藝平臺(tái)。

根據(jù)此前發(fā)布的消息，華力已經(jīng)與IC設(shè)計(jì)大廠聯(lián)發(fā)科技合作開發(fā)了28納米工藝，預(yù)計(jì)2017年將實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。該工藝平臺(tái)將首先在華力一期實(shí)現(xiàn)小規(guī)模量產(chǎn)，未來將導(dǎo)入二期生產(chǎn)線。

那么，華力未來將如何開發(fā)并利用好28納米及14納米的產(chǎn)能，在與臺(tái)積電等晶圓代工龍頭大廠的競(jìng)爭中取得更好的成績，是業(yè)界所普遍關(guān)注的。而發(fā)展“先進(jìn)成熟”工藝，或許就是華力的重要策略之一。

“‘先進(jìn)成熟工藝’這個(gè)概念是把國內(nèi)與國際實(shí)際情況結(jié)合起來而總結(jié)提出的，有些工藝比如28納米，在中國大陸還屬于先進(jìn)工藝，但是在國際上它已經(jīng)成熟了。在把它們開發(fā)出來并推向市場(chǎng)之后，如何取得更好的經(jīng)營效益、實(shí)現(xiàn)持續(xù)發(fā)展，是公司思考的重點(diǎn)?！崩缀２ㄖ赋觥Ｒ话銇碚f，在一個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)上主工藝平臺(tái)首先發(fā)展的是邏輯工藝或者是RF。隨著技術(shù)的成熟再逐漸開發(fā)特色工藝平臺(tái)，如高壓工藝平臺(tái)、CIS工藝平臺(tái)、eFlash工藝平臺(tái)等。對(duì)于中國大陸半導(dǎo)體公司來說，由于與國際先進(jìn)水平存在著1．5～2代的代差，因此在工藝平臺(tái)開發(fā)之初，就不能把力量僅僅集中在標(biāo)準(zhǔn)工藝上，也要關(guān)注特色工藝的開發(fā)。

“目前，華力的28納米平臺(tái)已在開發(fā)邏輯芯片和射頻芯片了。相信在3～5年后，CIS和嵌入式閃存也將移植到28納米平臺(tái)上?！崩缀２ǜ嬖V記者。

CIS、eFlash將移植到28納米工藝平臺(tái)

華力在建設(shè)一期項(xiàng)目時(shí)已下大力開發(fā)特色工藝?；谧灾餮邪l(fā)的55納米低功耗邏輯工藝平臺(tái)，華力推出了多個(gè)先進(jìn)的特色工藝技術(shù)平臺(tái)，包括55納米圖像傳感器工藝、55納米高壓工藝、55納米超低功耗工藝、55納米射頻工藝和55納米嵌入式閃存工藝平臺(tái)。其中，55納米圖像傳感器工藝是中國本土唯一利用12英寸在55納米工藝節(jié)點(diǎn)進(jìn)行高端圖像傳感器芯片制造，并最早進(jìn)入大規(guī)模量產(chǎn)，結(jié)合當(dāng)前雙鏡頭、物聯(lián)網(wǎng)等市場(chǎng)應(yīng)用熱點(diǎn)，已成為華力主要營收來源之一。

基于實(shí)際經(jīng)驗(yàn)，華力在二期建設(shè)時(shí)將推進(jìn)“先進(jìn)成熟工藝”作為重點(diǎn)。55納米后，CIS的下一個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)是40納米?！拔磥?，華力將會(huì)把CIS工藝導(dǎo)入到28納米工藝平臺(tái)上?！崩缀２ū硎尽?/p>

華力二期建設(shè)在2016年12月時(shí)項(xiàng)目已經(jīng)動(dòng)工?！皩?shí)現(xiàn)了當(dāng)年規(guī)劃、當(dāng)年開工。目前，打樁工作已經(jīng)完成，接下來我們要建設(shè)主體廠房及動(dòng)力廠房，確保在今年年底前廠房封頂，并安裝部分機(jī)電設(shè)備。同時(shí)，我們的工藝設(shè)備選型工作已經(jīng)開始，將在今年年底前完成前期1萬片的設(shè)備訂單，以保證在2018年年底前形成1萬片的產(chǎn)能?！崩缀２ㄍ嘎?。

然而，在產(chǎn)線的建設(shè)過程中有一點(diǎn)特別需要注意。“中國企業(yè)不能一味追蹤摩爾定律的垂直主線進(jìn)度，在相對(duì)國際先進(jìn)水平1．5～2代的代差難以短期迅速拉近的情況下，我們應(yīng)當(dāng)首先將相對(duì)先進(jìn)的工藝做好、做扎實(shí)，以先進(jìn)的工藝平臺(tái)發(fā)展特色生產(chǎn)線，將業(yè)務(wù)做寬、做實(shí)。這是最現(xiàn)實(shí)的選擇?！崩缀２ㄖ赋?。