據(jù)報(bào)導(dǎo)，臺積電南京有限公司總經(jīng)理羅鎮(zhèn)球日前在ICMC 2017 上表示，臺積電7納米制程預(yù)計(jì)2017 年下半將為客戶tape-out 生產(chǎn)。此外，他還透露，現(xiàn)階段EUV 最新曝光機(jī)臺在臺積電已經(jīng)可以達(dá)到連續(xù)3 天，穩(wěn)定處理超過1,500 片12 吋晶圓的狀態(tài)。根據(jù)時(shí)程，臺積電南京廠預(yù)計(jì)2017 下半年就要安裝生產(chǎn)機(jī)臺，2018 上半年試產(chǎn)，2018 下半年正式投入量產(chǎn)。

報(bào)導(dǎo)中指出，羅鎮(zhèn)球指出，臺積電做為全球最大晶圓代工廠，將會持續(xù)推進(jìn)摩爾定律。目前臺積電10 納米制程已順利量產(chǎn)，2017 年下半年7 納米制程也將正式tape-out。而臺積電所采用ASML 最新EUV 的型號為NXE3350 的曝光機(jī)臺，光源已經(jīng)可以提高到125 瓦，同時(shí)已達(dá)到連續(xù)3 天處理1,500 片12 吋晶圓的水準(zhǔn)。

羅鎮(zhèn)球還指出，未來智慧芯片將會滲透到個人、工業(yè)、零售、智慧城市領(lǐng)域，摩爾定律也將持續(xù)推動芯片走向低功耗、高性能、小面積。而事實(shí)上，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)未來的挑戰(zhàn)不僅只有制程微縮而已，其他的挑戰(zhàn)還包括EUV、整個電晶體的架構(gòu)從2D 轉(zhuǎn)變成3D，以及整個環(huán)繞式ALL Around Gate、Narrow-wide Device 等。

羅鎮(zhèn)球舉例，臺積電目前在3D 芯片領(lǐng)域開展了多條創(chuàng)新技術(shù)，包括IC 系統(tǒng)整合CoWos，將不同晶圓切割好再堆疊，單位體積上達(dá)到更高密度電晶體；目前此技術(shù)已在GPU 芯片實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。這些都是臺積電在運(yùn)用普及計(jì)算中的技術(shù)創(chuàng)新。

目前位于南京浦口的工廠是臺積電在大陸的第一座12 吋晶圓廠。羅鎮(zhèn)球透露，臺積電南京廠預(yù)計(jì)2017 下半年就要安裝生產(chǎn)機(jī)臺，并且于2018 上半年試產(chǎn)， 2018 下半年正式投入量產(chǎn)。

屆時(shí)將引進(jìn)16nm工藝？

去年7月，臺積電位于南京的300毫米(12英寸)晶圓廠暨設(shè)計(jì)服務(wù)中心將正式奠基開工，標(biāo)志著全球領(lǐng)先的晶圓技術(shù)進(jìn)入中國大陸，也意味著國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)的先進(jìn)工藝之戰(zhàn)正式打響。

臺積電取得了南京市浦口經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)橋林片土地的使用權(quán)，期限50年，獨(dú)資30億美元，在此建立一座300毫米晶圓工廠，以及一個設(shè)計(jì)服務(wù)中心。

該晶圓廠規(guī)劃月產(chǎn)能為2萬片300毫米晶圓，預(yù)計(jì)2018年下半年開始投產(chǎn)16nm工藝，2019年達(dá)到預(yù)定產(chǎn)能。

這是繼聯(lián)電、力晶之后，臺資在大陸設(shè)立的第三個300毫米晶圓廠，也是歷年來臺灣對大陸最大的單一投資案，還能帶動超過300億美元的產(chǎn)業(yè)發(fā)展。

南京廠投產(chǎn)后，臺積電在全球代工市場上的占有率將從55％提升至57％。

16nm已經(jīng)是臺積電當(dāng)前量產(chǎn)的最新工藝，不過其10nm也將從今年底開始試產(chǎn)，所以等到南京廠量產(chǎn)，仍然要落后一代。

臺積南京12 吋廠總經(jīng)理由羅鎮(zhèn)球所擔(dān)綱，臺積電據(jù)此也大舉招募人才，預(yù)計(jì)南京晶圓廠與服務(wù)中心將分別聘任1200 人與500 人，初期將有臺灣以及上海松江廠員工協(xié)助產(chǎn)能的建置，估計(jì)臺灣干部將占一半。

不只臺積電，聯(lián)電與力晶先前已以參股的形式，赴大陸設(shè)立12 吋晶圓廠，聯(lián)電廈門廠最快有望在今年第三季投產(chǎn)，初期將先導(dǎo)入40/55 納米制程，產(chǎn)能估計(jì)在每月約5 萬片，力晶則插旗合肥，以90 納米以上制程生產(chǎn)面板驅(qū)動IC，廠房估計(jì)2017 年完工，初期月產(chǎn)能約4 萬片。