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UNITYSC新型納米形貌量測平臺(tái)突破光學(xué)測量界限

2017-03-19

  NST 系列提供分辨率達(dá) 0.1nm 的非接觸全場輪廓測定;為混合鍵合提供獨(dú)家疊層對準(zhǔn)解決方案

  2017年3月16日法國格勒諾布爾——FOGALE Nanotech Group 的全資子公司 UnitySC,作為先進(jìn)半導(dǎo)體封裝檢測和量測解決方案的領(lǐng)導(dǎo)者,今天在上海 SEMICON 中國推出新的 NST 系列。NST 系列是世界上首個(gè)用于在大批量制造中精確量測半導(dǎo)體晶片納米級(jí)表面形貌的非接觸式量測解決方案。新平臺(tái)實(shí)現(xiàn)了更高的晶片成品率和產(chǎn)量,并針對下一代圖像傳感器和存儲(chǔ)器技術(shù)實(shí)施改良後的高級(jí)工藝提供更先進(jìn)的解決方案。

  先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備的性能要求不斷提高,推動(dòng)了對精確、高通量在線量測的需求。這在銅化學(xué)機(jī)械平坦化 (Cu CMP) 工藝、銅對銅晶片混合鍵合工藝前和后以及任何類型的前端化學(xué)機(jī)械平坦化和蝕刻工藝等亦都是如此,這些都是推動(dòng)半導(dǎo)體工業(yè)朝向更高效制造發(fā)展的必要條件。

  UnitySC 首席執(zhí)行官 Gilles Fresquet 說:“我們根據(jù)行業(yè)和客戶表達(dá)的需求開發(fā)了 NST 系列?!薄暗谝慌_(tái)設(shè)備于 2016 年底交付給一個(gè)關(guān)鍵客戶兼合作伙伴,現(xiàn)已投入使用。預(yù)計(jì)今年該系列會(huì)大量出貨。我們相信,這是工藝控制能力在成品率和生產(chǎn)量的一次變革,這將影響所有半導(dǎo)體形貌測量應(yīng)用,特別是高級(jí) CMOS 圖像傳感器(CIS)和 3D 存儲(chǔ)器堆棧?!?/p>

  “CIS是率先直接利用 3D 混合鍵合技術(shù)開發(fā)成果的行業(yè)。根據(jù)我們最新的技術(shù)和市場分析,這種混合鍵合技術(shù)的重要性將在 2017 年超過 10 億美元,并將在 2022 年之前將 CIS 市場的復(fù)合年增長率翻一番,提高至 20%,”Yole Développement 影像活動(dòng)負(fù)責(zé)人 Pierre Cambou 說道?!癠nitySC 憑借其新的 NST 系列納米形貌量測平臺(tái),從容應(yīng)對這一不斷發(fā)展的市場。”(1)

  UnitySC 的 NST 系列半導(dǎo)體測量設(shè)備優(yōu)于傳統(tǒng)光學(xué)干涉量測,因其不受表面透明層的影響。NST 系列更超越了接觸輪廓量測法,達(dá)到原子力顯微鏡級(jí)性能。分辨率低至 0.1nm 的非接觸式全場輪廓測定法捕獲無偽影區(qū)域掃描,以快于現(xiàn)有解決方案的速度提供關(guān)鍵信息。流水線制備工藝省去了主流技術(shù)所要求,在混合鍵合流程之前控制晶片表面質(zhì)量的CMP后金屬沉積步驟,從而減少晶片廢料并實(shí)現(xiàn)更高的成品率。此外,NST 是唯一為銅對銅混合鍵合應(yīng)用中的鍵合后計(jì)量提供疊對功能的量測平臺(tái)。

  NST 平臺(tái)目前提供兩種配置:

  ·NST XP 系統(tǒng)為單芯片或多芯片表面拓?fù)涮峁┒喙δ?、高速度和高精度的非接觸全場輪廓測定法。能夠執(zhí)行廣泛的量測,例如凹陷、腐蝕、臨界尺寸、階高、深溝槽和粗糙度。

  ·NST Bond 平臺(tái)是一個(gè)全面的混合鍵合量測解決方案,它將原有NST XP 的功能與銅化學(xué)機(jī)械平坦化和銅對銅鍵合工藝之后的高分辨率測量的附加功能結(jié)合在一起,包括面內(nèi)和面外疊對測量。


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