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臺積電5nm工藝預計2019年試產

2017-02-24
關鍵詞: 臺積電 制程

Intel此前在2017年投資者會議上宣稱他們的半導體工藝依然領先對手3年時間,結果被人嘲諷為PPT制敵,因為三星、TSMC的10nm工藝已經開始量產了,Intel的10nm工藝要等到今年底才能問世。對TSMC臺積電來說,他們的工藝之前確實落后Intel一兩代,但在10nm節(jié)點開始彎道超車,未來的工藝發(fā)展速度更是(官方宣傳中)超過了Intel,2018年打算量產7nm,而2019年則會試產5nm工藝,現(xiàn)在也著手研發(fā)更先進的3nm工藝了。

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23日下午TSMC公司舉行了供應鏈管理論壇,總經理、聯(lián)席CEO劉德音在會議上做了主題演講,公布了TSMC公司的一些新動向,比如2017年資本開支將達到100億美元,研發(fā)費用也會增加15%。

對于工藝進展,劉德音表示10nm工藝去年底就已經量產,現(xiàn)在有超過3000名工程師正在為第一季度的出貨做準備,今年下半年出貨量還會快速擴大。

10nm之后半導體制造工藝也會越來越困境,其中7nm公認為是高性能節(jié)點,而TSMC此前也對7nm進展感到滿意,自信會領先對手。這次會議上,劉德音提到TSMC的7nm工藝會在今年第一季度試產,2018年正式量產。

7nm之后就是5nm工藝,TSMC表示他們的5nm工藝今年已經進入技術研發(fā)階段,2019年上半年準備試產,不過具體量產時間就沒有公布。

再往后還有3nm工藝,這個工藝就更加遙遠了,Intel之前的路線圖中最多也就前瞻到5nm工藝,而TSMC表現(xiàn)已經著手研發(fā)3nm工藝了,投入了數(shù)百名工程師資源進行早期研發(fā),TSMC自己也沒公開3nm工藝什么時候試產、量產。

PS:考慮到TSMC以往的黑歷史,這些制程工藝的真正量產時間其實還是會有變數(shù)的,比如說7nm工藝,雖然他們并不是第一家準備在2018年就量產7nm工藝的公司(AMD好基友GF也這么說過),不過公認2018年量產7nm還是有點太早了,時間還不靠譜,財大氣粗如Intel這般也只是計劃在2020甚至2021年量產7nm工藝,此前宣布投資70億美元升級亞利桑那州的Fab 42工廠就是為7nm準備的。


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