全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾（ASML）20日宣布，在臺積電、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下，最先進的極紫外光（EUV）已連續(xù)四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三臺最新的EUV系統(tǒng)出貨。

　　EUV堪稱半導體設備發(fā)展以來最昂貴的設備，一臺售價高達9，000  萬歐元（約新臺幣36億元），這項設備也是半導體產業(yè)向更先進制程發(fā)展最關鍵設備，因此發(fā)展進度，一直各界關注焦點。

　　臺積電共同執(zhí)行長暨劉德音表示，臺積電本季將會再增購一臺EUV設備，不過臺積電將會于5奈米制程才會導入生產制程，顯示EUV的輸出率，目前仍處于試驗階段。

　　不過，ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得（Peter Wennink）昨天在公布第1季財報后，也針對EUV進展，公布重大突破。

　　他強調，ASML的目標是在今年持續(xù)強化EUV系統(tǒng)的生產力和妥善率，并計畫在今將機臺生產力提升到每天曝光1，500片晶圓。

　　他說，今年首季，ASML的EUV系統(tǒng)即展現(xiàn)每天曝光350片晶圓的實力。在妥善率方面，三個客戶端的EUV系統(tǒng)都展現(xiàn)連續(xù)四周平均妥善率達80%以上的成果。

　　至于首季已出貨一臺最新EUV微影系統(tǒng)NXE:3350B，計劃第2季出貨兩臺EUV系統(tǒng)。

　　ASML首季也推出深紫外光（DUV）最新型浸潤式機臺NXT:1980，并出貨6臺，且快速將生產力拉升到每天4000片晶圓的水準。這套系統(tǒng)將應用在即將邁入試產的10奈米制程。

　　ASML也于本季推出最新一代的整合式量測系統(tǒng)YieldStar 350E，提供晶圓更準確的量測結果來做后續(xù)分析。

　　ASML昨天公布首季營收13.3億歐元，毛利率42.6%，雙雙超標，本季預期在客戶導入新的浸潤式機臺為10奈米量產做準，且擴增28奈米制程產能，樂觀預期會有強勁成長。