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埃賽力達(dá)推出適用于340 nm-360 nm波長范圍的LINOS UV F-Theta Ronar低釋氣透鏡

其優(yōu)化設(shè)計(jì)可最大限度地減少激光材料加工應(yīng)用中掃描區(qū)域內(nèi)的釋氣和光斑尺寸變化
2025-03-03
來源:Excelitas Technologies

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  埃賽力達(dá)科技有限公司(Excelitas Technologies?)是一家創(chuàng)新的致力于改變?nèi)藗兩畹南冗M(jìn)技術(shù)供應(yīng)商,為生命科學(xué)、先進(jìn)工業(yè)、下一代半導(dǎo)體、航空航天和國防終端領(lǐng)域的全球知名品牌提供服務(wù)。該公司近期推出了適用于252 mm中等焦距范圍的LINOS? UV F-Theta Ronar低釋氣透鏡。新款LINOS F-Theta鏡頭專為配合埃賽力達(dá) LINOS UV 擴(kuò)束鏡而設(shè)計(jì),與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比具有更優(yōu)異的耐用性,可支持激光材料加工中所需的更高的UV脈沖能量和更短的激光脈沖,可廣泛用于半導(dǎo)體、晶圓加工、電子顯示器和太陽能電池制造等領(lǐng)域。

  該透鏡通過顯著減少輔助材料和潔凈裝配工藝,實(shí)現(xiàn)了優(yōu)異的耐用性。其獨(dú)特的UV設(shè)計(jì)采用了高品質(zhì)熔融石英透鏡和高端寬帶透鏡鍍膜,不僅確保了出色的光學(xué)性能,還有效減少了背向反射。其優(yōu)化的包裝和防塵材料進(jìn)一步提升了鏡頭的低釋氣性能。此外,埃賽力達(dá)還優(yōu)化了生產(chǎn)、鍍膜、物流、倉儲和裝配流程,從源頭到成品全程降低污染風(fēng)險,確保組件在整個工作流程中的高質(zhì)量。

  主要規(guī)格和特性:

  • 減少釋氣:采用先進(jìn)的設(shè)計(jì)和生產(chǎn)工藝,實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的低釋氣性能

  • 優(yōu)化設(shè)計(jì):適用于340 nm和 360 nm紫外波長,采用高端寬帶鍍膜

  • 精確的掃描性能: 掃描場內(nèi)的光斑尺寸變化較小,在10 mm掃描光圈下的掃描場范圍為 142 mm2 x 142mm2米,15 mm掃描光圈下的光斑尺寸可小至 11 μm

  • 改進(jìn)的處理能力:可應(yīng)對高功率和短脈沖應(yīng)用需求

  • 長期光學(xué)穩(wěn)定性:采用先進(jìn)技術(shù)制造,確保鏡頭的耐用性和可靠性

  • 優(yōu)化背向反射:有效減少掃描儀鏡面損傷,并延長使用壽命

  • M85x1機(jī)械接口:便于輕松集成到各種系統(tǒng)中

  “憑借其創(chuàng)新的減少釋氣設(shè)計(jì)和掃描場內(nèi)光斑尺寸變化,LINOS UV F-Theta Ronar低釋氣透鏡重新定義了激光材料加工的光學(xué)性能和可靠性。我們很高興將這一解決方案納入LINOS F-Theta-Ronar產(chǎn)品系列中?!卑Y惲_(dá)產(chǎn)品經(jīng)理Matthias Koppitz表示




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