隨著臺(tái)積電先進(jìn)工藝產(chǎn)能過(guò)剩定局，ASML的三大客戶(hù)很可能不在采購(gòu)EUV光刻機(jī)，如此ASML將陷入困境，能挽救它的只有中國(guó)市場(chǎng)了，這個(gè)時(shí)候也是ASML下定決心的時(shí)候，畢竟等待只會(huì)導(dǎo)致它未來(lái)更艱難。

EUV光刻機(jī)本來(lái)已是ASML的最大收入來(lái)源，但是由于眾所周知的原因，ASML卻無(wú)法給中國(guó)供應(yīng)EUV光刻機(jī)，如此EUV光刻機(jī)的客戶(hù)就只剩下臺(tái)積電、Intel和三星了，然而如今先進(jìn)工藝產(chǎn)能過(guò)剩，這三大客戶(hù)會(huì)否繼續(xù)采購(gòu)EUV光刻機(jī)就成為疑問(wèn)。

臺(tái)積電占有全球芯片代工市場(chǎng)超過(guò)五成的市場(chǎng)份額，但是近期分析機(jī)構(gòu)紛紛指出先進(jìn)工藝已面臨產(chǎn)能過(guò)剩的局面，臺(tái)媒也指出臺(tái)積電很可能在今年底前關(guān)閉部分EUV光刻機(jī)，近日投資機(jī)構(gòu)瑞銀指出明年臺(tái)積電的7nm等先進(jìn)工藝產(chǎn)能利用率將只有七成左右，這意味著先進(jìn)工藝產(chǎn)能過(guò)剩將至少延續(xù)到明年。

擁有最多先進(jìn)工藝產(chǎn)能的臺(tái)積電出現(xiàn)先進(jìn)工藝產(chǎn)能過(guò)剩，那就意味著全球先進(jìn)工藝產(chǎn)能是真的嚴(yán)重過(guò)剩了，如此一來(lái)三星和Intel自然更不可能大規(guī)模采購(gòu)EUV光刻機(jī)，ASML將不得不面對(duì)EUV光刻機(jī)成為庫(kù)存的事實(shí)，而將獲取收入的目光轉(zhuǎn)向用于成熟工藝的DUV光刻機(jī)。

DUV光刻機(jī)的最大客戶(hù)早已是中國(guó)大陸，2021年和今年一季度，ASML將三分之一的光刻機(jī)賣(mài)給了中國(guó)大陸，中國(guó)大陸也由此超越中國(guó)臺(tái)灣和韓國(guó)成為全球最大的光刻機(jī)采購(gòu)市場(chǎng)，更為ASML貢獻(xiàn)了超過(guò)三分之一的收入，然而二季度由于眾所周知的原因，ASML不能將14nm以下的DUV光刻機(jī)出售給中國(guó)大陸，導(dǎo)致ASML從中國(guó)大陸獲取的收入占比降低至10％，如今ASML即將陷入困境，它需要對(duì)中國(guó)大陸市場(chǎng)做出抉擇了。

近三年來(lái)全球規(guī)劃的86個(gè)芯片生產(chǎn)項(xiàng)目，中國(guó)就占了三分之一，可見(jiàn)中國(guó)對(duì)于芯片產(chǎn)能擴(kuò)張的決心，如今隨著全球芯片產(chǎn)能擴(kuò)張陷入停滯，中國(guó)大陸很可能將延續(xù)此前規(guī)劃的擴(kuò)張計(jì)劃。

對(duì)于中國(guó)大陸來(lái)說(shuō)，芯片制造仍然有廣闊的前景，2021年中國(guó)的芯片自給率才達(dá)到三成多點(diǎn)，這與中國(guó)規(guī)劃的到2025年實(shí)現(xiàn)七成芯片自給率仍然有很大的距離，如此繼續(xù)擴(kuò)張芯片產(chǎn)能將成為中國(guó)的堅(jiān)定路線。

如此在ASML可能陷入困境的時(shí)候，中國(guó)市場(chǎng)的重要性將更加凸顯，畢竟雪中送炭可是比錦上添花更更重要，甚至可以說(shuō)中國(guó)市場(chǎng)已成為ASML的救命稻草，能不能抓住這根救命稻草就看ASML如何抉擇了。

事實(shí)上，中國(guó)也并沒(méi)有完全寄望于ASML，隨著中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈在鏡頭、機(jī)臺(tái)、激光光源等方面取得突破，中國(guó)已成為全球唯一一個(gè)擁有光刻機(jī)全產(chǎn)業(yè)鏈的經(jīng)濟(jì)體，而ASML的光刻機(jī)卻需要從德國(guó)、日本和美國(guó)采購(gòu)相關(guān)的元件，如此情況下中國(guó)遲早能研發(fā)出先進(jìn)光刻機(jī)，一旦中國(guó)光刻機(jī)取得突破，那時(shí)候ASML就可能連最后的機(jī)會(huì)都沒(méi)有了。

別看ASML今天如此輝煌，就在17年前ASML還在為生存而掙扎，當(dāng)時(shí)日本佳能、尼康才是光刻機(jī)行業(yè)的老大，如今ASML如果錯(cuò)失機(jī)會(huì)再次陷入困境也是很有可能的。ASML也表示第二代EUV光刻機(jī)很可能是光刻機(jī)時(shí)代的技術(shù)終點(diǎn)，芯片制造工藝將會(huì)發(fā)生變革，美國(guó)也已研發(fā)出可生產(chǎn)0．7nm的新工藝，ASML的光刻機(jī)事業(yè)也快到終點(diǎn)了。

面對(duì)如此局面，ASML會(huì)如何抉擇呢？拭目以待。

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