2022年的北京冬奧會，是一場中國科技創(chuàng)新成果的“武裝”盛會，每一項技術硬件拿出來，都是中國人的驕傲。而這些企業(yè)背后，同樣站著服務商的身影。
近日，高端光學裝備及機器視覺光源廠商科視光學完成了近4億元C輪融資，本輪融資由中芯聚源、民生股權投資基金、洪泰基金聯(lián)合領投，產業(yè)投資方鑫睿資本、分享投資等跟投。
這是科視光學在一年不到的時間內，完成的第二輪融資，在2021年6月，已完成了由深圳慧和資產領投的7500萬元B輪融資。
這接連不斷的融資，無不彰顯著來自科視光學自有技術的商用化成果。
從單場景到賦能全產線
科視光學成立于2011年6月。成立之初，專注于機器視覺光源及光源控制系統(tǒng)，產品主要應用于各領域高端智能化裝備的視覺定位、測量及外觀檢查。
2015年隨著全球PCB產值穩(wěn)定增長，機器視覺光源廠商迎來全新發(fā)展機遇?？埔暪鈱W研發(fā)團隊將光源技術應用到PCB領域，并研制出國內領先的近紫外LED曝光機，走上高端曝光裝備的國產替代道路。
隨后三年內，科視光學2018年研制出國內首臺雙面雙框防焊半自動LED曝光機，獲得國家發(fā)明專利，解決了防焊制程只能單面曝光的技術難題。
目前，傳統(tǒng)的綠油防焊菲林曝光機，依然是國內大多數(shù)PCB企業(yè)的主力生產設備；但是受制于傳統(tǒng)綠油防焊菲林曝光機的制程能力缺陷，該種機型難以生產高精度的產品，且各種曝光不良造成的產品報廢，會進一步增加制造成本。因此，PCB企業(yè)迫切需要防焊DI數(shù)字光刻機，替代傳統(tǒng)菲林曝光機，以提高精度和良率。
2019年，科視光學研制出高產能的近紫外全自動防焊曝光機，攻克了光刻光源在能量、精度、多波長匹配、光源壽命、成本及效率等方面的技術難題。產能達到4．5PNL／分鐘，成為國內能夠解決MiniLED防焊曝光技術難題的核心裝備供應商。
除此之外，從公司的創(chuàng)新詞云可以看出，其專利主要聚焦于PCB板、曝光機、光刻機、光源裝置、LED燈珠、全自動等相關領域。
在機器視覺領域，科視光學共服務了包括?？低?、大恒科技、大族激光、先導智能、邁為股份、瑞聲聲學、利元亨、博眾精工、楚天科技等1500多家企業(yè)，是國內機器視覺光源及控制系統(tǒng)的龍頭之一。
盡管科視光學擁有著領先的技術水平，但從市場的角度來看，所謂的技術領先就是存在市場的“相對空白”，這便不僅要考慮同類產品競爭對手的存在，更要考慮伴隨科技發(fā)展未來能否跟上時代的步伐。
芯片“印鈔機”背后的困境
從發(fā)展歷程看，機器視覺其實算不上是新賽道，把機器視覺產業(yè)鏈視為坐標軸，橫坐標為五大應用，分別是：顯示面板、光通信、光伏、醫(yī)療、機器視覺；縱坐標為七個階段，分別是材料、芯片、設備、制造、傳感器、模組、算法和整機。
而作為電子產品最基礎組成部分的PCB，也迎來快速發(fā)展。據(jù)中國電子電路行業(yè)協(xié)會援引WECC報告，2020年，全球PCB產值達到730．97 億美元，本土PCB產值達到486．72億美元，占據(jù)全球市場 66．59％的份額。
尋常的光刻機已無法滿足當下的生產需求，PCB企業(yè)迫切需要防焊DI數(shù)字光刻機，來替代傳統(tǒng)光刻機。這恰恰也是科視光學先于市場規(guī)模、年增速、應用場景等考量因素的硬科技賽道重要邏輯：“國產替代”。
高端光刻機堪稱現(xiàn)代光學工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造，主要以荷蘭ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌為主。從早期的認知困難到現(xiàn)階段的技術比拼，光刻機的發(fā)展也是一波三折層層迭代。
所有技術都具備一定局限性，且技術落地還需要與相應場景特點相結合?？埔暪鈱W的近紫外LED曝光機在應用過程中，也存在各種挑戰(zhàn)。
光刻機是光刻工藝的核心設備，價值含量大、技術要求高。光刻是IC制造中的關鍵環(huán)節(jié)，工藝難度最大，對技術和設備的要求也最高。光刻機作為光刻環(huán)節(jié)的核心設備，也是所有半導體制造設備中技術含量最高的設備。
根據(jù)摩爾定律，集成電路上可容納的元器件的數(shù)，每隔18個月就會增加一倍。這意味著，集成電路芯片的集成度大約每三年增加4倍，半導體器件的特征尺寸大約每三年縮小兩倍。
尺寸更小的芯片，在電子速度一定的情況下，信號傳遞的速度就會越快，在一定時間內傳輸?shù)男畔⒕蜁蕉唷ｋS著芯片尺寸的變小，相同面積下可以承載更多的晶體管，高集成度則意味著芯片的高性能?？梢娋w管的尺寸對于芯片的性能具有重大意義，而光刻機決定了晶體管的尺寸。
也正是因此，光刻機研發(fā)的技術門檻和資金門檻非常高，能生產高端光刻機的廠商非常少，到最先進的14－7nm光刻機就只剩下ASML能生產，日本佳能和尼康已經基本放棄光刻機的研發(fā)。
除了技術上的問題，讓企業(yè)運營的另外一個壓力在于技術突破和人才團隊的聚焦與持續(xù)發(fā)展。由于技術基礎比較薄弱，不但要攻克技術上的難點，還要解決攻克過程中的管理問題。
結語
摩爾定律走到極限之際，有幾條路徑是延續(xù)其壽命的關鍵，其中之一就是光刻機技術的突破。芯片小型化、微縮化是不可逆的趨勢。光刻機的進步代表著先進進程，這之外，產業(yè)也在積極尋找其他既能讓芯片維持小體積，又能保持芯片高效能的方式。
當下，全球芯片制造業(yè)都在擴產，無論是先進制程，還是成熟制程，都進入了一段高速發(fā)展時期。這些給光刻機相關的產業(yè)發(fā)展提供了難得的機遇。
AI、5G應用推動芯片微縮化，要實現(xiàn)5nm、3nm等先進制程，意味著需要更新穎的技術支援以進行加工制造，未來或許也會對科視光學們提出更多考驗。
