與非網(wǎng) 6 月 4 日訊，美國太空計劃創(chuàng)造了歷史，SpaceX DM-2 龍飛船（Crew Dragon）上的 NASA 宇航員羅伯特·本肯（Robert Behnken）和格拉斯·赫利（Douglas Hurley）抵達國際空間站（ISS），這是商業(yè)航天器首次將宇航員運送到國際空間站。

國際空間站是企業(yè)、政府和大學的研究實驗室。一段時間以來，國際空間站的宇航員已在該實驗室為各個組織進行了大量創(chuàng)新實驗。2019 年 11 月，諾斯羅普·格魯曼公司的天鵝座（Cygnus）飛船從弗吉尼亞州的瓦羅普斯飛行研究所 (Wallops Flight Facility)發(fā)射升空。

航天器攜帶來自 Astrileux（ 一家為制造 7nm 以下集成電路提供光學技術的公司）的有效載荷進入國際空間站。有效載荷是由太空科學發(fā)展中心（CASIS）和納米機架合作進行的此外，該航天器還載有 20 多種其他有效載荷。

國際空間站的宇航員利用來自 Astrileux 的有效載荷，在國際空間站的外部平臺上進行了光刻實驗。實驗圍繞 Astrileux 的新 EUV 光學鍍膜技術進行，目的是確定是否有可能使用 Astrileux 的 EUV 涂層捕獲太陽 EUV 輻射。

這些材料構成了波長為 13.5nm 的 EUV 光刻工具的光學器件和反射鏡的基礎。實驗證明，能用 Astrileux 的 EUV 涂層捕獲太陽 EUV 輻射。有朝一日，來自 Astrileux 的材料能夠成為一類新型的太空儀器。它還為未來基于 EUV 的空間光刻技術奠定了基礎，該技術使用太陽輻射的能量作為光源。國際空間站最初于 2000 年投入使用，它是一個模塊化的太空實驗室，是美國、俄羅斯、日本、歐洲和加拿大的航空航天機構之間的合作。

很難想象一個有大型 EUV 設備的工廠將在國際空間站甚至在月球或火星上建造。但是在將來，在太空中發(fā)展小型晶圓廠或微型晶圓廠是可行的。為此，航天器或太空殖民地將需要 3D 打印機和 fab 工具，以及對晶片進行圖形化（pattern）的光刻技術。這就是需要與 Astrileux、太空科學發(fā)展中心以及納米艙（NanoRacks）合作的地方。太空科學發(fā)展中心是國際空間站的美國國家實驗室（美國政府資助的實驗室）的管理者。

為了進行實驗，Astrileux 設計了有效載荷，并合并到納米艙的立方體衛(wèi)星中。立方體衛(wèi)星包括 Astrileux 有效載荷的內部和外部組件。在實驗中，Astrileux 的材料成功地展示了 EUV 的波長范圍（10nm-20nm）。

Jaiswal 說：“ Astrileux 創(chuàng)造了可以在極端輻射環(huán)境中生存的新型 EUV 光學涂層，并可以有效捕獲 13.5nm 和其他 EUV 波長的 EUV 輻射?！庇谐蝗眨@些材料也會有新的應用。首先，它可以為能夠捕獲 EUV 輻射的新型空間儀器鋪平道路。

Jaiswal 說：“ Astrileux 的新型 EUV 光學器件為空間探索、太陽輻射成像、望遠鏡、星系統(tǒng)和太空系統(tǒng)中使用的光學系統(tǒng)的新設計奠定了基礎。”

傳統(tǒng)的 EUV 光學器件可能需要花費 100 天以上的時間來對單個晶片進行圖形化，而 Astrileux 的光學器件最終可以將圖形化時間減少到不到 10 個小時。反過來，這使得在空間中的小型社區(qū)中進行晶圓圖形化和制造成為可行的概念。

同時，在地球上，一些鑄造廠已將 EUV 光刻技術投入 7nm 和 5nm 的生產，并進行了 3nm 的研發(fā)。Astrileux 的新型 EUV 涂層也是生產工廠中 EUV 光刻掃描儀的理想選擇。