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3家瓜分200多億?中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)逆襲篇

2019-12-01
來(lái)源:雪球
關(guān)鍵詞: 半導(dǎo)體

  今天我們來(lái)看下半導(dǎo)體行業(yè)的上游:半導(dǎo)體設(shè)備,這或?qū)⑹切酒袠I(yè)又一個(gè)產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移的重點(diǎn)領(lǐng)域。

  中國(guó)大陸目前對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備的需求占到全球市場(chǎng)的15%,15%的市場(chǎng)份額看似不多,已經(jīng)是2014年的兩倍且仍有進(jìn)一步上升的預(yù)期。這說(shuō)明了什么?說(shuō)明國(guó)內(nèi)正在加緊興建晶圓產(chǎn)能,從而激發(fā)了對(duì)上游半導(dǎo)體設(shè)備的需求。

  半導(dǎo)體設(shè)備有很高的技術(shù)門檻,國(guó)內(nèi)企業(yè)由于起步晚,技術(shù)水平與美日比較仍有差距,整體而言,半導(dǎo)體核心設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化率不到15%。

  然而,隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的蛋糕越做越大,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)也慢慢開始崛起,有能力和實(shí)力從美日企業(yè)手中搶占國(guó)內(nèi)市場(chǎng)份額。尤其是技術(shù)領(lǐng)先的國(guó)內(nèi)企業(yè),未來(lái)國(guó)產(chǎn)替代的空間巨大。那么在眾多類型的半導(dǎo)體設(shè)備中,誰(shuí)會(huì)率先實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代呢?

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  半導(dǎo)體設(shè)備需求空間近3000億

  我們?cè)谇懊娴奈恼轮蟹治鲞^(guò),在芯片產(chǎn)業(yè)鏈中,國(guó)內(nèi)的最大短板在芯片制造,芯片制造甚至比芯片設(shè)計(jì)更難,因?yàn)樾枰度刖揞~的設(shè)備資本,還有高技術(shù)門檻。在芯片加工過(guò)程中有多道工序,且每道工序的合格率都必須達(dá)到99.99%,才能確保最后的總體合格率在90%以上。

  芯片制造相當(dāng)于喜馬拉雅山,我們必須登頂成功,才能解決芯片產(chǎn)業(yè)的最大短板問(wèn)題。于是近幾年,全國(guó)各地出現(xiàn)了興建半導(dǎo)體制造產(chǎn)能的浪潮。據(jù)國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)預(yù)估,2017-2020年全球新投產(chǎn)的62座晶圓廠中有26座來(lái)自中國(guó)大陸。

  為什么國(guó)內(nèi)要興建如此多的半導(dǎo)體廠?那是因?yàn)槿藗冾A(yù)期5G和人工智能的發(fā)展將帶來(lái)對(duì)半導(dǎo)體新增的需求。當(dāng)然部分也受全球貿(mào)易局勢(shì)的影響,別人不供給,得靠自己。沒(méi)有芯片,何談5G和AI?

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  券商根據(jù)目前在建以及計(jì)劃興建的生產(chǎn)線,計(jì)算出未來(lái)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備的需求空間在2808億元。這塊大蛋糕不可能都給外資,國(guó)內(nèi)成長(zhǎng)起來(lái)的半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)必將分得一杯羹。

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  哪個(gè)環(huán)節(jié)將率先國(guó)產(chǎn)替代?

  半導(dǎo)體的加工分工晶圓制造(前道)、中道和封裝(后道)三個(gè)步驟。相應(yīng)的,半導(dǎo)體設(shè)備可分為晶圓處理設(shè)備,測(cè)試設(shè)備、封裝設(shè)備以及其他設(shè)備(包括掩膜版/光罩、晶圓制造設(shè)備等)。其中,晶圓處理設(shè)備占比最大。據(jù)SEMI估計(jì),2018年晶圓處理設(shè)備的投資占到整體設(shè)備投資的81%。

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  具體到晶圓處理生產(chǎn)線,又分為7個(gè)環(huán)節(jié)步驟,分別是擴(kuò)散→光刻→刻蝕→離子注入→薄膜生長(zhǎng)→拋光→金屬化,每個(gè)步驟均需要不同種類的半導(dǎo)體設(shè)備。

  這其中光刻機(jī)、刻蝕機(jī)和薄膜沉積設(shè)備(PVD+CVD)在晶圓處理設(shè)備中的投資額占比最大,分別為30%、20%、25%,屬于核心設(shè)備。

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  圖:晶圓處理設(shè)備的價(jià)值量構(gòu)成比例

  這三類占比最大,但是技術(shù)門檻也一樣的高。目前,尖端技術(shù)基本掌握在外企手中,是一個(gè)寡頭壟斷的市場(chǎng),市場(chǎng)前三名都霸占了90%以上的市場(chǎng),其中行業(yè)老大基本吃掉一半左右的市場(chǎng)。

  也就是說(shuō),我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)即便能吃到,也是占很小的份額。這三種設(shè)備,按照國(guó)產(chǎn)化率由高到低排序,分別是刻蝕機(jī)>薄膜沉積設(shè)備>光刻機(jī)。

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  國(guó)產(chǎn)化率越高,說(shuō)明國(guó)產(chǎn)企業(yè)的技術(shù)越成熟。由此,哪個(gè)設(shè)備將率先實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代一目了然。那就是刻蝕設(shè)備。據(jù)SEMI估計(jì),到2020年,國(guó)內(nèi)刻蝕設(shè)備的國(guó)產(chǎn)率將達(dá)到20%。

  跟大家科普下,刻蝕是用化學(xué)或者物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過(guò)程,可謂是半導(dǎo)體的“雕刻刀”。刻蝕又分干法刻蝕和濕法刻蝕,其中干法刻蝕是主流,濕法刻蝕僅用于大尺寸,或者是在干法刻蝕后幫忙清楚殘留物。

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  數(shù)據(jù)來(lái)源:中微公司招股說(shuō)明書

  上面是一層結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)步驟,就像一座平房,而實(shí)際上集成電路是一個(gè)甚至多達(dá)60層的“摩天大樓”,這60層每一層都需要將上述工序逐個(gè)來(lái)一遍。一層結(jié)構(gòu)需要十幾個(gè)加工步驟,60層的復(fù)雜結(jié)構(gòu)需要約1000個(gè)加工步驟,每一步都至關(guān)重要,當(dāng)然也就意味著刻蝕機(jī)這把雕刻刀需要一直保持精確的工作。

  刻蝕設(shè)備有多大市場(chǎng)空間呢?刻蝕設(shè)備投資占晶圓處理設(shè)備投資的比例約為20%,因此,未來(lái)中國(guó)在建或計(jì)劃建設(shè)的半導(dǎo)體工廠對(duì)刻蝕設(shè)備的投資額度大約為449億元。

  而實(shí)際可能不只這個(gè)數(shù)。因?yàn)槟壳鞍雽?dǎo)體器件的尺寸越來(lái)越小,部分環(huán)節(jié)用光刻機(jī)不能實(shí)現(xiàn),需要用刻蝕機(jī)代替,從14nm到5nm,刻蝕步驟將增加數(shù)倍。當(dāng)然,對(duì)刻蝕機(jī)的要求也將顯著提高。

  目前,刻蝕設(shè)備全球三大巨頭分別為韓國(guó)的拉姆研究、日本的東京電子和美國(guó)的應(yīng)用材料。據(jù)中微半導(dǎo)體的招股說(shuō)明書,這三家公司的市場(chǎng)份額占比超過(guò)90%。

  雖然刻蝕機(jī)目前是國(guó)外企業(yè)壟斷的局面,但是國(guó)內(nèi)企業(yè)對(duì)國(guó)產(chǎn)化率的提高也相當(dāng)有信心。據(jù)中微公司創(chuàng)始人預(yù)計(jì),未來(lái)刻蝕機(jī)的國(guó)產(chǎn)化率將達(dá)到50%,非常樂(lè)觀。按照其它行業(yè)以往國(guó)產(chǎn)替代的速率,這個(gè)預(yù)計(jì)也并非不能實(shí)現(xiàn)。

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  國(guó)內(nèi)代表企業(yè)

  如果僅看干法刻蝕設(shè)備,目前國(guó)內(nèi)供應(yīng)商鳳毛麟角,僅有中微公司(688012)、北方華創(chuàng)(002371)和中電科48所等。

  其中,中微公司業(yè)務(wù)比較集中,主營(yíng)就刻蝕設(shè)備、MOCVD設(shè)備兩大塊,技術(shù)也最為先進(jìn)。目前,中微公司5nm刻蝕機(jī)已獲全球芯片代工龍頭臺(tái)積電的認(rèn)證,2020年,臺(tái)積電5nm芯片生產(chǎn)線就會(huì)采購(gòu)中微的產(chǎn)品。

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  表:中微公司前五大客戶

  中微公司上半年登陸科創(chuàng)板,且是科創(chuàng)板第二市盈率個(gè)股,市場(chǎng)矚目。其半年報(bào)業(yè)績(jī)也很亮眼,上半年共實(shí)現(xiàn)營(yíng)收8億元,同比增速高達(dá)72%;歸母凈利潤(rùn)3037萬(wàn)元,同比扭虧為盈。

  北方華創(chuàng)則于2016年突破了14nm生產(chǎn)技術(shù),與國(guó)際水平的差距僅在兩三年。2018年,北方華創(chuàng)的12英寸14納米集成電路工藝設(shè)備也進(jìn)入了驗(yàn)證階段。

  今年一季度,中微半導(dǎo)體、北方華創(chuàng)共有3臺(tái)刻蝕設(shè)備中標(biāo)了國(guó)內(nèi)芯片代工領(lǐng)先企業(yè)華虹半導(dǎo)體的生產(chǎn)線,這也從側(cè)面證明了兩家企業(yè)的實(shí)力。國(guó)內(nèi)企業(yè)只要技術(shù)達(dá)到了,再憑借高性價(jià)比往往都能PK外資企業(yè)

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