0 引言
近40年的CMOS器件不斷縮小,以求達(dá)到更高的速度,更高性能和更低功耗。靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(SRAM)憑著其高速和易用性的優(yōu)勢(shì),已被廣泛應(yīng)用于系統(tǒng)級(jí)芯片(SoC)。據(jù)國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)藍(lán)圖(ITRS)的預(yù)測(cè),到2013年內(nèi)存將占到SoC面積的90%,這將導(dǎo)致了芯片的性能越來越取決于SRAM的性能。但是,隨著CMOS技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展,由此需要降低電源電壓和閾值電壓,而這一系列舉措勢(shì)必會(huì)降低SRAM單元的穩(wěn)定性。另外,在深亞微米情況下,工藝環(huán)境以及隨之帶來的參數(shù)變化也會(huì)大大影響SRAM單元的穩(wěn)定性。
在傳統(tǒng)6T-SRAM結(jié)構(gòu)里,數(shù)據(jù)存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)通過存取管直接連接到位線上。這樣在讀過程中,由于存取管和下拉管之間的分壓作用會(huì)使存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)數(shù)據(jù)受到干擾,另外由于這種直接讀/寫機(jī)制會(huì)使存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)很容易受到外部噪聲的影響從而可能導(dǎo)致邏輯錯(cuò)誤。
除了數(shù)據(jù)的穩(wěn)定性問題之外,不斷增大的芯片漏電流也是另一個(gè)需要考慮的問題。在現(xiàn)代高性能微處理器,超過40%的功耗是由于泄漏電流引起的。隨著越來越多的晶體管集成到微處理器上,漏電功耗的問題將會(huì)更加突出。此外,漏電是待機(jī)模式下惟一的能耗來源,SRAM單元是漏電流的一個(gè)重要來源。
本文在分析傳統(tǒng)6T-SRAM基礎(chǔ)上,并基于以上考慮,提出了一種高可靠性低功耗的新6管SRAM單元。由于讀電流與噪聲容限的沖突,這個(gè)結(jié)構(gòu)采用讀/寫分開機(jī)制,將存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)和讀輸出分開,從而不會(huì)使位線的波動(dòng)干擾到存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)的值;另外,每次讀或?qū)戇^程中,只需要一個(gè)位線參與工作,因此相比較而言,降低了功耗,仿真結(jié)果顯示這種結(jié)構(gòu)讀/寫速度也和普通6管SRAM相差無幾。
1 6T-SRAM存儲(chǔ)單元簡(jiǎn)介
6管存儲(chǔ)單元結(jié)構(gòu)如圖1所示。
1.1 6管單元結(jié)構(gòu)及工作原理
6T-SRAM單元結(jié)構(gòu)晶體管級(jí)電路如圖1所示,它由6個(gè)管子組成,整個(gè)單元具有對(duì)稱性。其中M1~M4構(gòu)成雙穩(wěn)態(tài)電路,用來鎖存1位數(shù)字信號(hào)。M5,M6是傳輸管,它們?cè)趯?duì)存儲(chǔ)器進(jìn)行讀/寫操作時(shí)完成將存儲(chǔ)單元與外圍電路進(jìn)行連接或斷開的作用。對(duì)單元的存取通過字線WL(Word Line)使能,字線WL為高電平時(shí)傳輸管導(dǎo)通,使存儲(chǔ)單元的內(nèi)容傳遞到位線BL(Bit Line),單元信息的反信號(hào)傳遞到位線,外圍電路通過BL和
讀取信息。寫操作時(shí),SRAM單元陣列的外圍電路將電壓傳遞到BL和
上作為輸入,字線WL使能后,信息寫入存儲(chǔ)單元。
1.2 靜態(tài)噪聲容限SNM
靜態(tài)噪聲容限SNM是衡量存儲(chǔ)單元抗干擾能力的一個(gè)重要參數(shù),其定義為存儲(chǔ)單元所能承受的最大直流噪聲的幅值,若超過這個(gè)值,存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)的狀態(tài)將發(fā)生錯(cuò)誤翻轉(zhuǎn)。隨著數(shù)字電路不斷發(fā)展,電源電壓VDD逐漸變小,外部噪聲變得相對(duì)較大。如圖1所示的6T-SRAM,在讀操作中有一個(gè)從存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)到位線BL的路徑,當(dāng)存取管開啟,BL和存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)直接相連。因此,外部的噪聲很容易破壞數(shù)據(jù),噪聲容限受到前所未有的挑戰(zhàn)。
2 新型6T-SRAM存儲(chǔ)單元簡(jiǎn)介
針對(duì)以上問題,提出一個(gè)新型6T-SRAM存儲(chǔ)單元結(jié)構(gòu),如圖2所示。NMOS管M5和M6負(fù)責(zé)讀操作,NMOS管M1,M4,PMOS管M2,M3完成寫操作,讀/寫操作的時(shí)候只有1個(gè)位線參與工作,因此整個(gè)單元功耗減小很多。
(1)空閑模式
在空閑模式下,即讀操作和寫操作都不工作的情況下,當(dāng)O存在Q點(diǎn)時(shí),M3打開,Qbar保持在VDD,同時(shí)M2,M4是關(guān)閉的,此時(shí)Q點(diǎn)的數(shù)據(jù)0可能受到漏電流IDS-M2漏電堆積,從而在Q點(diǎn)產(chǎn)生一定電壓,甚至可能導(dǎo)致Q點(diǎn)數(shù)據(jù)翻轉(zhuǎn),產(chǎn)生錯(cuò)誤邏輯。因此要利用M1管的漏電流,主要是M1的亞閾值電流,為了這個(gè)目的,需要在空閑模式下將位線拉到地,同時(shí)將字線WL保持在亞閾值工作的條件下,這樣就可以無需刷新正確存儲(chǔ)數(shù)據(jù)0。當(dāng)1存在Q點(diǎn)時(shí),M4,M2打開,在Q和Qbar之間有正反饋,因此Q點(diǎn)被M2管拉到VDD,Qbar被M4管拉到地,但是此時(shí)M1管是處在亞閾值條件下,因此有一條路徑從VDD到
,這會(huì)導(dǎo)致Q點(diǎn)數(shù)據(jù)不穩(wěn)定,甚至有可能翻轉(zhuǎn),由于流經(jīng)M2的電流遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于流經(jīng)M1的電流,數(shù)據(jù)相對(duì)還是比較穩(wěn)定的。另一條位線BL拉到地,在空閑模式下讀路徑這端漏電流很小,可以忽略。
(2)寫循環(huán)
寫1操作開始,WL高電平打開M1管,讀控制管RL關(guān)閉,充電使得
=1,BL=0,Q點(diǎn)開始充電到1(此時(shí)由于NMOS管傳遞的是弱1),從而打開M4管,使Qbar=0,同時(shí)正反饋打開M2管,將Q點(diǎn)保持在強(qiáng)1;相反,寫0操作的時(shí)候,位線
放電到
=0,打開字線WL,Q=0,同時(shí)打開M3管,Qbar=1。在結(jié)束寫操作后,單元進(jìn)入空閑模式。
(3)讀循環(huán)
讀操作主要由M5,M6管負(fù)責(zé),Qbar連接到M5管的柵極,BL充電到高電平。讀1的時(shí)候,Q=1,Qbar=0,M5關(guān)閉的,因而靈敏放大器從BL讀出的是1;當(dāng)讀0操作的時(shí)候,WL字線關(guān)閉的,RL開啟,Q=0,Qbar=1,管子M5開啟,M5管和M6管共同下拉BL,讀出數(shù)據(jù)0。在結(jié)束讀操作后,單元進(jìn)入空閑模式。
2.1 噪聲容限
噪聲容限是在沒有引起單元翻轉(zhuǎn)前提下引入存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)的最大噪聲電壓值。在讀操作的時(shí)候,噪聲容限對(duì)于單元的穩(wěn)定性更加重要,因?yàn)樵趥鹘y(tǒng)的SRAM中讀噪聲容限和讀的電流是沖突的,提高讀電流速度的同時(shí)會(huì)降低讀噪聲容限為代價(jià),所以在傳統(tǒng)SRAM結(jié)構(gòu)中,讀電流和讀噪聲容限不可以分開獨(dú)立調(diào)節(jié),兩者是相互影響制約的。而新結(jié)構(gòu)采用獨(dú)立的讀電流路徑,不包括存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn),因而在讀操作的時(shí)候,位線上的電壓波動(dòng)和外部噪聲幾乎不會(huì)對(duì)存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)造成影響,從而大大的增加了讀噪聲容限。
2.2 漏電流
從以上分析可知,當(dāng)數(shù)據(jù)存0的時(shí)候,新型6T-SRAM是通過M1管的亞閾值電流來保持?jǐn)?shù)據(jù)的;當(dāng)數(shù)據(jù)存1的時(shí)候,由于M2,M4的正反饋?zhàn)饔?,并且在空閑狀態(tài)下M1處于亞閾值導(dǎo)通狀態(tài),所以存在從電源電壓到地的通路,這些都會(huì)導(dǎo)致漏電流的增加圖3顯示了這條路徑。在大部分?jǐn)?shù)據(jù)和指令緩存器中,所存的值為0居多,分別占到75%和64%?;谶@些考慮,在標(biāo)準(zhǔn)0.18μm CMOS工藝下,對(duì)普通6T-SRAM和新型6T-SRAM進(jìn)行了平均漏電流仿真。傳統(tǒng)6T-SRAM漏電流為164 nA,新型6T-SRAM漏電流為179 nA,新型SRAM比傳統(tǒng)的大9%,這是可以接受的范圍因?yàn)樾滦蚐RAM采用漏電流保持技術(shù),從而不需要數(shù)據(jù)的刷新來維持?jǐn)?shù)據(jù),另外漏電泄露不會(huì)在Q點(diǎn)產(chǎn)生過高的浮空電壓,因而數(shù)據(jù)更加穩(wěn)定。
2.3 功耗
一般而言,位線是產(chǎn)生動(dòng)態(tài)功耗的主要部分,所以說往往在讀/寫操作轉(zhuǎn)換過程中位線的變化會(huì)消耗主要的功耗,本文對(duì)傳統(tǒng)6T-SRAM和新型6T-SRAM單元結(jié)構(gòu)進(jìn)行了功耗仿真,如表1所示。
表1中可以看出,在傳統(tǒng)的6T-sRAM讀/寫過程中,對(duì)稱結(jié)構(gòu)的兩個(gè)位線電壓的變化是一致的,因而功耗是相同的。新型6T-SRAM單元功耗比傳統(tǒng)單元低了很多,這是因?yàn)樵谧x/寫操作的時(shí)候,參與工作的管子數(shù)量少,并且只有一個(gè)位線參與工作,并且在寫0的時(shí)候,由于位線是0,所以功耗很低。
2.4 讀/寫仿真
為了進(jìn)一步驗(yàn)證新型6T-SRAM讀/寫功能的正確性,以及與傳統(tǒng)6T-SRAM單元的比較,采用HSpice對(duì)兩種管子進(jìn)行了讀/寫仿真。如圖4-圖7所示。
新型6T-SRAM存儲(chǔ)單元的讀/寫仿真表明,單個(gè)存儲(chǔ)單元的讀/寫時(shí)間在0.2 ns內(nèi),符合存儲(chǔ)器在高速狀態(tài)下運(yùn)行的需要。
3 結(jié)語(yǔ)
本文提出一種新型的SRAM單元,新型6T-SRAM單元有兩個(gè)單獨(dú)的數(shù)據(jù)訪問機(jī)制,一個(gè)是讀操作,另外一個(gè)是寫操作。而且,SRAM單元設(shè)計(jì)不干擾存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)的讀操作過程。該SRAM單元是在0.18μm工藝下仿真的,新型SRAM采用漏電流保持技術(shù),從而不需要刷新來維持?jǐn)?shù)據(jù),并且仿真顯示功耗比較傳統(tǒng)SRAM低了很多,讀/寫速度方面比傳統(tǒng)SRAM慢了一點(diǎn),但是這是在可以接受的范圍內(nèi)。