《電子技術(shù)應(yīng)用》
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IR為低功率應(yīng)用推出雙PQFN2x2 和雙PQFN3.3x3.3功率MOSFETs擴(kuò)展了PQFN封裝系列

2011-07-20
作者:IR

  全球功率半導(dǎo)體和管理方案領(lǐng)導(dǎo)廠商國(guó)際整流器公司 (International Rectifier,簡(jiǎn)稱IR) 擴(kuò)展其PQFN封裝系列,推出PQFN 2mm x 2mm和PQFN 3.3mm x 3.3mm封裝。新型封裝集成了兩個(gè)采用IR最新硅技術(shù)的HEXFET® MOSFET,為低功率應(yīng)用提供高密度、低成本的解決方案,這些應(yīng)用包括智能手機(jī)、平板電腦、攝像機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、直流電動(dòng)機(jī)、無(wú)線感應(yīng)充電器、筆記本電腦、服務(wù)器、網(wǎng)通設(shè)備等。
 
  新款PQFN2x2和PQFN3.3x3.3雙器件在每一個(gè)封裝上都配備了一對(duì)功率MOSFET, 提供共汲極和半橋拓?fù)涞撵`活性。這些器件利用IR最新的低壓硅技術(shù) (N和P) 來(lái)實(shí)現(xiàn)超低損耗。例如,IRLHS6276在只有4 mm2 的范圍內(nèi),配備了兩個(gè)典型導(dǎo)通電阻 (RDS(on)) 均為33mΩ的MOSFET。
 
  IR亞太區(qū)銷售副總裁潘大偉表示:“新型PQFN雙器件適用于開(kāi)關(guān)和直流應(yīng)用,為客戶提供高密度、低成本的解決方案。如今,IR新增了這些封裝,能夠提供一系列低壓PQFN產(chǎn)品,包括N通道和P通道器件,20V和30V器件,最小驅(qū)動(dòng)能力達(dá)到4.5V或2.5V的器件,以及單器件或雙器件,它們都擁有極低的導(dǎo)通電阻。”
 
  這個(gè)雙PQFN系列包括專為高側(cè)負(fù)荷開(kāi)關(guān)優(yōu)化的P通道器件,可提供更為簡(jiǎn)便的驅(qū)動(dòng)解決方案。這些器件的封裝厚度不到1 mm,與現(xiàn)有的表面貼裝技術(shù)相兼容,并且擁有符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的占位空間,也符合電子產(chǎn)品有害物質(zhì)管制規(guī)定  (RoHS) 。
 
產(chǎn)品規(guī)格


器件編號(hào)

封裝

BV (V)

最大Vgs

10V下的

典型/最大導(dǎo)通電阻(mΩ)

4.5V

典型/最大導(dǎo)通電阻(mΩ)

2.5V

典型/最大導(dǎo)通電阻 (mΩ)

IRFHS9351

PQFN

2x2

-30V

+/- 20 V

135 / 170

235 /  290

-

IRLHS6276

PQFN

2x2

+20V

+/- 12 V

-

33 / 45

46 / 62

IRLHS6376

PQFN

2x2

+30V

+/- 12 V

-

48 / 63

61 / 82

IRFHM8363

PQFN

3.3x3.3

+30V

+/- 20 V

12/15

16 / 21

-

  有關(guān)產(chǎn)品現(xiàn)正接受批量訂單。相關(guān)數(shù)據(jù)和MOSFET產(chǎn)品選型工具請(qǐng)瀏覽IR 的網(wǎng)站 www.irf.com
 
專利和商標(biāo)
  IR® 和HEXFET®是國(guó)際整流器公司 (International Rectifier Corporation) 的注冊(cè)商標(biāo)。文中所提及其它產(chǎn)品名稱均為對(duì)應(yīng)持有人所有的商標(biāo)。

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