美國羅格斯大學（Rutgers University）和美國國家標準技術研究所（National Institute of Standards and Technology，NIST）發(fā)表論文稱，有望將光路微細化至與現有電子電路同等的水平。據介紹，已有把握利用“Gap Plasmon（GP）”（電子與電磁場耦合的縱波在金屬之間的縫隙中傳播）現象，將現有最小的光調制器尺寸再減少至1/10。
NIST等此次試制出了利用GP的光相位調制器。GP可以傳播用兩根金屬線夾住絕緣體（空氣或者稀薄的SiO2等）的MIM（Metal-Insulator-Metal）型“光布線”信號。相當于光布線核心的絕緣體的厚度約為200nm，調制器的長度約為23μm。
尺寸可進一步降至1/10
此次試制的光調制器尺寸在現有的試制例子中已經非常小了，不過還有幾個競爭對手。NIST等表示，數值計算結果表明，即使將此次試制品的尺寸降至1/10也可照常使用。
具體是采用兩根絕緣體厚度為17nm、金屬線寬度為100nm的MIM型光布線，設計尺寸為2.5μm×0.3μm×0.217μm的Mach-Zehnder（MZ）調制器，然后通過模擬對其特性進行檢測。結果發(fā)現，其工作損耗與實際制作的23μm長調制器幾乎相同。
這款MZ調制器中采用的MIM型光布線的100nm這個尺寸，可與約15年前的半導體技術設計規(guī)則匹敵。假如能夠進一步降低金屬線的寬度，可以讓線寬接近20nm左右，此次的論文中沒有提到這一點。光路也有望微細化至與最新的半導體技術同等的水平。
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